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平板氧化铝粉_片状氧化铝粉生产厂家


河南科胜研磨材料有限公司的平板氧化铝粉是以进口工业氧化铝粉为主要原料,通过特殊处理,高温控制晶粒生长方向,颗粒呈独特的平板状结构,硬度高达莫氏九级,磨削力强,不易产生划痕

1、与其它片状粉体相比,片状氧化铝具有优良的综合性能,如熔点高、硬度大、机械强度高、耐磨性好、耐化学侵蚀、抗氧化和耐热性好等。

2、形状为平板状,即片状,使磨擦力增大,提高了磨削速度,提高了工效,因此可减少研磨机的数量、人工和磨削时间;

3、由于形状为平板状,所以对于被磨对象(如半导体硅片等)来说不易划伤,合格品率可提高10%15%,如半导体硅片,其合格品率一般能达到96%以上;

4、片状氧化铝具有较小的厚度与较大的径厚比,在厚度方向可以达到纳米级,而在径向为微米级,因此,它兼有纳米和微米粉末的双重功效;表面活性适中,既能与其它活性基团有效结合,又不易团聚而便于有效分散。

5、片状氧化铝具有良好的附着力,显著的屏蔽效应与反射光线的能力。

6、片状氧化铝粉体近乎透明、无色,且具有平坦光滑的表面,结晶完好的晶体呈正六角形。

平板氧化铝粉用途:

1. 高精密电子材料的抛光粉单晶硅片、压电石英晶体、化合物半导体的研磨和抛光

2. 增加聚合物导热率的填充剂

3. 提高陶瓷断裂韧性的增强剂

4. 比云母更好用的珠光颜料底材

5. 让人容光焕发的化妆品添加剂

研磨抛光性能优势:
用于抛光粉片状氧化铝可制成性能优良的抛光粉,这种抛光粉可用于高精密微电子材料的抛光,也可用于陶瓷的抛光和光学显微镜等诸如此类的玻璃表面的抛光。片状氧化铝具有良好的分散稳定性和平行排列性,当用于抛光粉时,可以让片状氧化铝的上下表面基本平行于被抛光材料的表面,因此可以最大可能地避免表面下的损伤,使抛光后的表面依然平滑如镜。

平板氧化铝粉规格:

粒度(um
粒度分布
包装
D0
D3
D50
D94
45
82.9
53.4±3.2
34.9±2.3
22.8±1.8
20
40
77.8
41.8±2.8
29.7±2.0
19.0±1.0
20
   35
64.0
37.6±2.2
25.5±1.7
16.0±1.0
20
30
50.8
30.2±2.1
20.8±1.5
14.5±1.1
20
25
40.3
26.3±1.9
17.4±1.3
10.4±0.8
20
20
32.0
22.5±1.6
14.2±1.1
9.00±0.80
20
15
25.4
16.0±1.2
10.2±0.8
6.30±0.50
20
12
20.2
12.8±1.0
8.20±0.60
4.90±0.50
20
9
16.0
9.70±0.80
6.40±0.50
3.60±0.30
20
5
12.7
7.20±0.60
4.70±0.40
2.80±0.25
20
3
10.1
5.20±0.40
3.10±0.30
1.80±0.30
20
2
8.5
4.20±0.30
2.50±0.30
0.90±0.20
20
1
5.5
3.50±0.30
1.50±0.30
0.30±0.30
20